PVD是什么意思
气相沉积的基本过程包括三个步骤:即提供气相镀料;镀料向所镀制的工件(或基片)输送;镀料沉积在基片上构成膜层。
沉积过程中若沉积粒子来源于化合物的气相分解反应,则称为化学气相沉积(CVD),否则称为物理气相沉积(PVD)。
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化学基础