硅片的制备，切片磨片和抛光方法简介
粗磨：用熔化的石蜡和松香（2:1)将硅圆片平整地粘附在铝板上，冷却后，轻轻地括去铝板和硅片上多余的石蜡松香。然后,在玻璃板上用303号金刚砂加一些水研磨之。粗磨的主要目的是把各个硅片都研磨到同一平面上。因此，粗磨到各片都处于同一平面时，即可转入细磨。
细磨：粗磨后各片都处于同一平面了，但是，粗磨磨料的颗粒度很大，粗磨后的硅表面还是比较粗糙的，如果马上进行拋光的话，需要很长的时间，才能抛好。细磨就是用颗粒度较小的磨料研磨硅片，使之表面光滑些，从而缩短抛光时间。细磨前先要用自来水冲洗去粗磨的金刚砂，再用305号颗粒度较小的金刚砂研磨之。细磨后的硅片表面应无划痕。
粗抛：用自来水冲掉片子上残留的金刚砂，然后装在抛光机上进行抛光。拋光液为1:75的氧化镁水溶液，抛光布用呢或毡都可以。抛光时间一般为四至五小时。
细抛：用丝绒拋光五至六小时。
抛光结束后，用自来水冲洗片子，彻底地清除片子上残存的氧化镁,然后再用热水熔化石蜡松香，使片子从铝板上脱落下来。随即用洗液烧煮数次，然后,再用大量去离子水冲洗，最后进行干燥,仔细保藏。
良好的抛光表面应是光亮如镜，并且无划痕、麻点、桔皮、倒角等毛病。
氧化镁抛光液呈很弱的碱性，对硅片有微弱的腐蚀作用。温度较髙时，腐蚀作用加剧会产生泡沫，影响抛光质最。所以，在炎热的夏天抛光时，氧化镁要用冰冷却。在常温，氧化镁对硅片的腐蚀作用虽很弱。但是，如果抛光后残留的氧化镁未冲洗掉,时间一长，也会对硅片表面产生腐蚀作用。因此，一定要将抛光后残留的氧化镁冲洗干净。